Intel инвестирует более 20 миллиардов долларов в строительство
Сегодня корпорация Intel объявила о планах первоначальных инвестиций в размере более 20 миллиардов долларов США в строительство двух новых передовых заводов по производству микросхем в Огайо. Строительство должно начаться в этом году, а заводы должны быть полностью запущены в 2025 году.
Инвестиции помогут увеличить производство, чтобы удовлетворить растущий спрос на передовые полупроводники, обеспечить новое поколение инновационных продуктов Intel и удовлетворить потребности клиентов литейного производства в рамках стратегии компании IDM 2.0.
«Мы ожидаем, что это станет крупнейшей площадкой по производству кремния на планете», — заявил журналу генеральный директор Intel Пэт Гелсингер. «Мы помогли создать Силиконовую долину, теперь мы собираемся сделать то же самое с Силиконовым сердцем».
В марте прошлого года Intel заявила, что хочет больше производственных площадок в США и Европе в дополнение к двум новым фабрикам в Аризоне, которые в настоящее время строятся и должны быть введены в эксплуатацию к 2024 году.
