В США придумали, как печатать микрочипы точнее — с помощью мягкого рентгена
Учёные из Университета Джонса Хопкинса разработали новый подход к производству микрочипов. Вместо традиционного ультрафиолетового света они предлагают использовать мягкое рентгеновское излучение с длиной волны 6.5–6.7 нанометра. Это позволяет получать ещё более тонкие и точные детали, вплоть до 5 нанометров и меньше, что важно для будущих поколений процессоров и памяти.
Сегодня самые сложные чипы производятся с помощью EUV-литографии — технологии, использующей свет длиной 13.5 нм. Однако она требует огромных вложений и очень сложного оборудования. Новый метод, который учёные называют B-EUV (beyond-EUV), может со временем заменить эти дорогие системы, но пока находится только на стадии экспериментов.
Главная проблема нового подхода — большинство современных материалов не работают с таким коротким излучением. Чтобы решить это, команда исследовала поведение различных металлов. Оказалось, что цинк способен поглощать излучение и запускать нужные химические реакции на поверхности кремниевых пластин. Это и позволяет «рисовать» сверхтонкие схемы на чипах.
Чтобы нанести рабочий слой на пластину, был создан новый метод — химическое жидкое осаждение (CLD). Он позволяет формировать тонкую зеркальную плёнку из специальных веществ с высокой точностью. Такой подход открывает возможность быстро подбирать материалы под разные типы литографии — не только B-EUV, но и другие.
Хотя пока технология далека от реального производства, создание рабочих материалов для мягкого рентгена — важный шаг вперёд. Если в будущем удастся разработать источники излучения и зеркала, то появится альтернатива нынешним дорогостоящим литографическим машинам.
